臺(tái)積電10nm工藝良率不佳,聯(lián)發(fā)科成為受害者

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作者:柏銘007

2016-12-22 12:32:54

摘自:百度百家

 臺(tái)積電為了趕進(jìn)度已在當(dāng)前試產(chǎn)10nm工藝,不過(guò)臺(tái)媒指其10nm工藝存在較嚴(yán)重的良率問(wèn)題,這意味著其10nm工藝產(chǎn)能將相當(dāng)有限,在它優(yōu)先將該工藝產(chǎn)能供給蘋(píng)果的情況下

臺(tái)積電為了趕進(jìn)度已在當(dāng)前試產(chǎn)10nm工藝,不過(guò)臺(tái)媒指其10nm工藝存在較嚴(yán)重的良率問(wèn)題,這意味著其10nm工藝產(chǎn)能將相當(dāng)有限,在它優(yōu)先將該工藝產(chǎn)能供給蘋(píng)果的情況下,對(duì)另一大客戶聯(lián)發(fā)科顯然不是好消息。

聯(lián)發(fā)科由于一直難在高端市場(chǎng)上獲得突破,所以這次狠下心來(lái)要采用臺(tái)積電的最先進(jìn)工藝10nm生產(chǎn)高端芯片helio X30,并且為了在中端芯片上與高通競(jìng)爭(zhēng)其中端芯片helio P35也采用10nm工藝。

由于當(dāng)下聯(lián)發(fā)科所有芯片都不支持中國(guó)移動(dòng)要求的LTE Cat7技術(shù),因此中國(guó)手機(jī)企業(yè)紛紛放棄聯(lián)發(fā)科芯片而采用高通的芯片,這更要求聯(lián)發(fā)科盡快將helio X30和P35推出市場(chǎng),據(jù)說(shuō)這兩款芯片都支持LTE Cat10技術(shù)。

臺(tái)積電的10nm工藝量產(chǎn)時(shí)間本來(lái)就較晚,比三星晚了兩個(gè)月,如今再傳出其10nm工藝存在較嚴(yán)重的良率問(wèn)題,對(duì)于聯(lián)發(fā)科來(lái)說(shuō)可謂是雪上加霜的事情。

從臺(tái)積電一貫以來(lái)的做法,其在20nm工藝上優(yōu)先照顧蘋(píng)果導(dǎo)致長(zhǎng)期大客戶高通的離開(kāi),在16nmFinFET工藝上優(yōu)先照顧蘋(píng)果導(dǎo)致華為海思選擇同時(shí)開(kāi)發(fā)兩款高端芯片麒麟960和麒麟970,其中麒麟960選用16nmFinFET工藝先量產(chǎn)面市而麒麟970則可以悠閑的等待臺(tái)積電10nm工藝的成熟,可知臺(tái)積電毫無(wú)疑問(wèn)的在10nm工藝上會(huì)再次優(yōu)先照顧蘋(píng)果。

當(dāng)下基本可以確定蘋(píng)果會(huì)采用臺(tái)積電的10nm工藝生產(chǎn)A10X、A11、A11X芯片,A10X將用于在3月份發(fā)布的新iPad Pro上,第二季度將要開(kāi)始用該工藝生產(chǎn)A11,三季度或四季度或會(huì)開(kāi)始用該工藝生產(chǎn)A11X芯片,在臺(tái)積電的10nm工藝良率需要時(shí)間提升而蘋(píng)果這幾款芯片又占去大部分產(chǎn)能的情況下,能提供給聯(lián)發(fā)科的產(chǎn)能將會(huì)極為有限。

臺(tái)積電的10nm工藝在供應(yīng)給蘋(píng)果剩下的產(chǎn)能當(dāng)中又要面臨聯(lián)發(fā)科和華為海思的爭(zhēng)奪,所以這部分產(chǎn)能只是用于生產(chǎn)聯(lián)發(fā)科的helio X30都有一定的難度,更別說(shuō)生產(chǎn)helio P35了,因?yàn)閺慕衲甑那闆r來(lái)看聯(lián)發(fā)科的P系芯片才是銷(xiāo)量最大的。

在這樣的情況下,聯(lián)發(fā)科最好的做法是趕快將helio P35轉(zhuǎn)用臺(tái)積電的16nmFinFET工藝,其實(shí)當(dāng)下高通、華為海思的中端芯片分別采用三星的14nmFinFET、臺(tái)積電的16nmFinFET工藝,因此helio P35即使采用16nmFinFET工藝與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手是處于同一水平的,并不會(huì)處于不利的競(jìng)爭(zhēng)地位,怪只怪聯(lián)發(fā)科太相信臺(tái)積電的工藝研發(fā)進(jìn)程了。

毫無(wú)疑問(wèn)的是,聯(lián)發(fā)科將因helio X30和P35無(wú)法及時(shí)上市而在今年四季度和明年一季度處于不利的競(jìng)爭(zhēng)位置。展訊則可能是獲益者之一,它已開(kāi)發(fā)出支持LTE Cat7技術(shù)的芯片,而且獲得了Intel的14nmFinFET(該工藝與臺(tái)積電和三星的10nm工藝相當(dāng))工藝支持,加上地利優(yōu)勢(shì)可能因此在大陸市場(chǎng)獲得部分國(guó)產(chǎn)手機(jī)品牌的支持,它在3G市場(chǎng)對(duì)聯(lián)發(fā)科造成了較大的打擊,如今聯(lián)發(fā)科的錯(cuò)誤選擇給它提供了極佳的機(jī)會(huì)。

當(dāng)然對(duì)于臺(tái)積電來(lái)說(shuō),16nmFinFET、10nm工藝均不能如期量產(chǎn)打擊了客戶的信心,據(jù)說(shuō)其5nm工藝也有可能無(wú)法如期量產(chǎn)導(dǎo)致高管出現(xiàn)變動(dòng),再加上每次都優(yōu)先照顧蘋(píng)果的做法必然會(huì)讓其他客戶心生疑慮,高通會(huì)否在7nm工藝上轉(zhuǎn)單回臺(tái)積電值得思量。

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