臺積電5nm制程基地最快今年動(dòng)工,2020年量產(chǎn)

責(zé)任編輯:jackye

作者:仲平

2017-01-19 09:16:52

摘自:IT之家

據(jù)聯(lián)合財(cái)經(jīng)網(wǎng)報(bào)道,昨天臺積電正式表示,旗下5nm制程工藝基地最快將在今年動(dòng)工,目標(biāo)是在2020年實(shí)現(xiàn)5nm工藝量產(chǎn),以拉開與三星和英特爾的制程差距。

1月19日消息 據(jù)聯(lián)合財(cái)經(jīng)網(wǎng)報(bào)道,昨天臺積電正式表示,旗下5nm制程工藝基地最快將在今年動(dòng)工,目標(biāo)是在2020年實(shí)現(xiàn)5nm工藝量產(chǎn),以拉開與三星和英特爾的制程差距。

臺積電高管莊子壽表示,5nm工藝目前仍在發(fā)展當(dāng)中,臺積電5nm工藝是未來兩到三年的目標(biāo),預(yù)期5nm基地占地40公頃,投資額為幾千億新臺幣,待臺積電董事會通過后就會啟動(dòng)。

臺積電5nm制程基地最快今年動(dòng)工,2020年量產(chǎn)

5nm制程工藝不僅擁有更好的芯片特性,更使得在生產(chǎn)過程當(dāng)中更節(jié)能環(huán)保,與25nm制程工藝相比,5nm工藝制造階段用電量僅為10%,同時(shí)污染總量以及廢水排放量也會減少。

目前臺積電臺積電制程重心在于16nm工藝以及10nm工藝,5nm工藝量產(chǎn)還需三年的時(shí)間。

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