雖然臺積電號稱自己很快將進入7nm工藝，甚至連5nm和3nm的工藝都已經(jīng)在設(shè)計驗證了，但是凡事還是要擺事實講道理。作為半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)頭羊的三星和Intel均表示，7nm的阻礙前所未有的大，所需要的EUV（極紫外光刻）光刻機商用問題十分嚴重。

昨天除了大家熟悉的GDC Nvidia大會，還有一場面向?qū)I(yè)人員的國際光電工程學(xué)會(SPIE)年度會議，在會議上，包括Intel和三星的頂尖專家均表示目前EUV技術(shù)推進速度十分地緩慢。

這兩家行業(yè)巨頭，三星表示去年生產(chǎn)的首款EUV光罩目前已經(jīng)趨近完美，而Intel早在1992年就開始研究起EUV，終于在去年成功投入生產(chǎn)并商用，不過Intel同樣表示EUV技術(shù)還沒有完全成熟，自己仍在研究。

作為光刻機的霸主，荷蘭ASML公司的NXE 3350B成為了未來EUV技術(shù)的主力，據(jù)悉一臺光刻機的售價達到了6億人民幣，比F35戰(zhàn)斗機還貴。

但是ASML的專家卻稱，目前NXE 3350B的問題還是頗多，即使能夠正常運行超過75%的時間，但是EUV光罩問題還是讓商用難以成為現(xiàn)實?？礃幼硬皇荌ntel不想進步，的確半導(dǎo)體行業(yè)需要一個革命性的改變了。