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遇到瓶頸了：Intel、三星7nm工藝受阻

作為半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)頭羊的三星和Intel均表示，7nm的阻礙前所未有的大，所需要的EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)商用問題十分嚴(yán)重。

2017-03-02
Intel EUV NXE

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